HS编码查询
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD))
| 商品编码 | 8486202100 | ||||
| 商品名称 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD)) | ||||
| 申报要素 | 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌;5:型号;6:GTIN;7:CAS; | ||||
| 归属分类 | 第十六类 机器、机械器具、电气设备及其零件；录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件、附件（84~85章） | ||||
| 章节归属 | 第八十四章 核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件 | ||||
| 法定第一单位 | 台 | 法定第二单位 | 无 | ||
| 最惠国(%) | 0% | 进口普通(%) | 30% | 出口从价关税率 | 0% |
| 增值税率 | 17% | 退税率(%) | 17% | 消费税率 | - |
| 海关监管条件 | 无 | 检验检疫 | 无 | ||
| 商品描述 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置化学气相沉积装置(CVD) | ||||
| 英文名称 | Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis | ||||
| 个人行邮(税号) | 无 | ||||
| 许可证或批文代码 | |||||
| HS法定检验检疫 | |||||
申报实例汇总
| HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
| 84862021.00 | 有机金属化学气相沉积炉 | 用于生产LED高亮度蓝绿光外延片 |
| 84862021.00 | 金属有机物化学气相沉淀炉 | (ICCCS19X2/生产半导体晶片用) |
| 84862021.00 | 化学气相沉积设备 | (旧)(制作半导体专用) |
| 84862021.00 | 化学气相沉积设备/NOVELLUS/在 | (D15498A) |
| 84862021.00 | 金属有机物化学气相沉积设备 | D-180 |
| 84862021.00 | 金属有机源气相沉积设备 | D300 |
| 84862021.00 | 镀膜机 | COATINGMACHINE |
| 84862021.00 | 化学气相沉积设备/WJ牌 | WJ999 |
| 84862021.00 | 射频等离子增强化学气相沉积系统 | P600 |
| 84862021.00 | 金属有机物化学气相沉积系统 | CCS19X2FlipTop |
| 84862021.00 | 金属有机物化学气相沉积台 | E450LDM |
| 84862021.00 | 气体混合柜成套散件/RESI | 化学气相沉积设备，将沉积薄膜的气体按照要求混合 |
| 84862021.00 | 化学气相沉积设备 | CONCEPTONE |
| 84862021.00 | C-1淀积炉 | 型号C1 |
| 84862021.00 | IC淀积炉 | 型号7000VTR,旧设备 |
| 84862021.00 | 钨膜化学气相沉积设备 | C3AltusNOVELLUS牌 |
| 84862021.00 | 太阳能减反射膜制造设备 | Centrotherm牌,E2000HT410-4(4) |
| 84862021.00 | (旧)常压化学气相沉积设备 | 在硅片表面上沉积一层二氧化硅薄膜;;Watkins-Johnson |
| 84862021.00 | 外延炉 | 用于半导体生产;使硅片上产生薄膜;LPE;PE2061S |
| 84862021.00 | 等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统主机 | 镀非晶和微晶膜,品牌:OERLIKON,型号:KAIMT |
下一条：制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置(物理气相沉积装置(PVD))
HS编码（Harmonized System Code，简称HS Code）是国际贸易中用于商品分类和关税管理的标准化编码系统。这里是hs编码8486202100对应商品制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD))的归属分类详细介绍页面，包括其申报要素、海关监管条件、出口退税率等信息，并提供申报实例参考。
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