HS编码查询
制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机
| 商品编码 | 8486204100 | ||||
| 商品名称 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 | ||||
| 申报要素 | 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌;5:型号;6:GTIN;7:CAS; | ||||
| 归属分类 | 第十六类 机器、机械器具、电气设备及其零件；录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件、附件（84~85章） | ||||
| 章节归属 | 第八十四章 核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件 | ||||
| 法定第一单位 | 台 | 法定第二单位 | 无 | ||
| 最惠国(%) | 0% | 进口普通(%) | 30% | 出口从价关税率 | 0% |
| 增值税率 | 17% | 退税率(%) | 17% | 消费税率 | - |
| 海关监管条件 | 无 | 检验检疫 | 无 | ||
| 商品描述 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 | ||||
| 英文名称 | Dry plasma etching for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis | ||||
| 个人行邮(税号) | 无 | ||||
| 许可证或批文代码 | |||||
| HS法定检验检疫 | |||||
申报实例汇总
| HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
| 84862041.00 | 感应耦合等离子刻蚀机(不含外 | PlasmaProSystem100ICP180 |
| 84862041.00 | 等离子干法刻蚀机 | 在晶圆加工工艺中对晶圆表面径向处理增加不同介质层之 |
| 84862041.00 | 刻蚀机 | (旧)1994年(制作半导体专用) |
| 84862041.00 | 干式蚀刻机 | (制作半导体专用) |
| 84862041.00 | 电浆处理设备 | IPC-1000,LINCO牌应用真空电浆技术利用气体离子化 |
| 84862041.00 | 干式蚀刻机 | system100-ICP380 |
| 84862041.00 | 干法蚀刻设备 | 型号:FLEX45DD |
| 84862041.00 | 多晶硅蚀刻机/AMATC牌/用于晶圆生产蚀刻工艺 | Centura5200Poly8inch |
| 84862041.00 | 金属蚀刻机/LAM牌 | AllianceTCP9608PTX2ch |
| 84862041.00 | IC刻蚀机 | 型号P5000,旧设备 |
| 84862041.00 | 蚀刻机 | 型号:Centura5200 |
| 84862041.00 | 氧化物蚀刻机 | UNITYVer285DI |
| 84862041.00 | 干式光阻去除机/Mattson牌 | ASPEN-IIICP(Usedtool) |
| 84862041.00 | 等离子体刻蚀机 | M42200-2/UM |
| 84862041.00 | 深干法硅微结构离子刻蚀机 | SYSTEM100ICP180 |
| 84862041.00 | 干法蚀刻机 | NE-550 |
| 84862041.00 | 离子刻蚀微调机 | SFE-6430C |
| 84862041.00 | 金属蚀刻机 | TE-8500SESC |
| 84862041.00 | 干法蚀刻装置 | 490利用等离子蚀刻 |
| 84862041.00 | 等离子体干法刻蚀机 | 2300型LAM牌 |
下一条：其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备
HS编码（Harmonized System Code，简称HS Code）是国际贸易中用于商品分类和关税管理的标准化编码系统。这里是hs编码8486204100对应商品制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机的归属分类详细介绍页面，包括其申报要素、海关监管条件、出口退税率等信息，并提供申报实例参考。
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